Zaloguj się
Wszystkie
1 lutego 2024
470
Politechnika Warszawska (PW)
Według założeń projektu, przygotowana zostanie niskotemperaturowa technologia oparta na technice MOCVD, która związana jest z osadzaniem cienkich warstw na powierzchni licznych materiałów poprzez użycie związków metaloorganicznych w fazie pary. Technologia ta winna dostarczać dwuwymiarowe struktury półprzewodników, na podłożach zgodnych z wymogami przemysłu, w tym elastycznych, o jakości dorównującej podłożom wytwarzanym w procesach wysokotemperaturowych. Zrozumienie dokładnych mechanizmów przyrostu struktur pozwoli lepiej kontrolować te procesy, jak również udoskonalić protokoły syntezy i jakość materiałów. Jest to krok w stronę budowy wydajniejszych sporo urządzeń elektronicznych, odblokowania obecnie niedostępnych aplikacji i redukcji poboru mocy - do produkcji elektroniki. Opisywany projekt zakończy się demonstracją praktycznego zastosowania i jest podzielony na 2 części - technologiczną oraz naukową.
Więcej informacji pod adresem: pw.edu.pl
Facebook
Twitter
Linkedin
Kup teraz
